A Siena una fabbrica per fotovoltaico a film sottile

schema del PPD Colle Val D'elsa, dal prossimo 18 settembre non sarà più famosa per la lavorazione artigianale dei cristalli ma anche per la produzione di sottilissimi film per il fotovoltaico. In quella data, difatti, sarà inaugurata la Siena Solar Nanotech.

La tecnologia, usata, si avvale di una cella fotovoltaica prodotta con una innovativa struttura grazie alla Pulsed Plasma Deposition (PPD) così spiegata dalle pagine del loro sito:

È una tecnica proprietaria che si basa sull'ablazione diretta di un target mediante impulsi di elettroni ad alta energia. Cioè, la PPD permette di prelevare del materiale da un dischetto (target) e "spruzzarlo" su un oggetto (substrato). Si ottiene in questo modo sul substrato un sottilissimo rivestimento della stessa composizione del materiale di partenza. Sovrapponendo più strati di materiali diversi nel modo opportuno si ottiene una struttura che trasforma la luce in elettricità: la cella fotovoltaica. I materiali cresciuti con questa tecnica presentano ottime caratteristiche chimico-fisiche difficilmente ottenibili con altri processi utilizzati nella produzione di film industriali quali ad esempio: PECVD, sputtering, sublimazione ed evaporazione. La PPD permette inoltre di depositare film potenzialmente su qualsiasi substrato, è adatta ad essere applicata su grandi superfici, ha una elevata velocità di crescita e non richiede alte temperature. Grazie a queste caratteristiche, si dimostra quindi uno strumento eccezionale per la produzione di celle fotovoltaiche flessibili a basso costo. Si adatta infatti alle necessità della produzione industriale e rende possibile la fabbricazione di celle in continuo su nastro.

L'azienda è un sogno cullato dai senesi e da Carlo Taliani, direttore del CNR di Bologna, senese e presidente della Solar Nanotech. Il progetto è stato finanziato dalla Fondazione Monte dei Paschi di Siena e Sici, Sistema Imprese Centro Italia.

Via | SienaFree, 2SN
Foto | 2SN

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